Дата та місце народження: 24 січня 1979 р.

Освіта:
1996-2001 Чернівецький національний університет;
2002-2005 - Аспірант інституту фізики напівпровідників ім.В.Є.Лашкарьова НАН України

Наукові ступені та звання: 
2006 – кандидат фізико-математичних наук (01.04.07–фізика твердого тіла)

Захистив дисертацію „Структура та фізичні властивості тонкоплівкових дифузійних бар’єрів W-Ti-N та Ta-Si-N на підкладках арсеніду та нітриду галію”  19.05.2006 р.

21. Relationship between Condition of Deposition and Properties of W-Ti-N Thin Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering
    By Andrian V. Kuchuk, Vasyl P. Kladko, Oksana S. Lytvyn, Anna Piotrowska, Roman A. Minikayev, and Renata Ratajczak // Advanced engineering materials. 2006, 8, No3. P.209-212. (Cited 3 times)
    
    
    Download: [pdf]

---

22. Термическая стабильность аморфных тонких Ta-Si-N пленок в системе металлизации Au/GaN
    А.В. Кучук, В.П. Кладько, В.Ф. Мачулин, A. Piotrowska // Журнал технической физики, 2006, T.76, вып.10. C.132-135. (cited 3 times)
    
    
    Download: [pdf]

---

23. Thermal Stability of Thin Amorphous Ta–Si–N Films Used in Au/GaN Metallization
    A.V. Kuchuk, V.P. Klad’ko, V.F. Machulin, and A. Piotrowska // Technical Physics, 2006, Vol. 51, No. 10, pp. 1383–1385.
    
    
    Download: [pdf]

---

24. Technology and comparative investigation of ternary W-TiN and Ta(Ti)-SiN thin films diffusion barriers
    Kuchuk A.V., Kladko V.P., Machulin V.F., Piotrowska A.  // Proceedings of 18^th International Symposium “Thin Films in Optics and Nano-Electronics” at Kharkov Nanotechnology Assembly, Kharkov - 2006, Vol. 2. P. 68-72.
    
    
    Download: [pdf]

---

25. Heat-Resistant AuВ-TiBxВ-n-GaN Schottky Diodes
    A.E. Belyaev, N.S. Boltovets, V.N. Ivanov, V.P. Kladko, R.V. Konakova, Ya.Ya. Kudryk, A.V. Kuchuk, O.S. Lytvyn, V.V. Milenin, Yu.N. Sveshnikov  // Microwave and Telecommunication Technology, 2006. Volume: 2, P.644-645 CriMiCO '06. 16th International Crimean Conference
    
    
    Download: [pdf]

---

26. Effect of Nitrogen in Ta—Si—N Thin Films on Properties and Diffusion Barrier Performances
    A.V. Kuchuk, V.P. Kladko, V.F. Machulin, O.S. Lytvyn, А.А. Коrchovyi, A. Piotrowska, R.A. Minikayev, and R. Jakiela // Металлофизика и новейшие технологии. / Metallofiz. Noveishie Tekhnol. 2005, т. 27, № 5, сс. 625—634
    
    
    Download: [pdf]

---

27. Thermally stable Ru-Si-O gate electrode for AlGaN/GaN HEMT
    E. Kaminska, A. Piotrowska, A. Szczesny,A. Kuchuk, R. Lukasiewicz, K. Golaszewska, R. Kruszka, A. Barcz, R. Jakiela, E. Dynowska, A. Stonert, A. Turos // Phys. Stat. Sol. (c), Vol. 2, No. 3, P. 1060– 1064 (2005)
    
    
    Download: [pdf]

---

28. Formation of rocking curves for quasi-forbidden reflections in short-periodic superlattices GaAs/AlGaAs
    Vasyl Kladko, Leonid Datsenko, Volodymyr Machulin, Jaroslaw Domagala, Petro Lytvyn, Jadwiga Bak-Misiuk, Andrian Kuchuk and Andrii Korchovyi // J. Appl. Cryst. (2004). 37, 150–155. (cited 3 times)
    
    
    Download: [pdf]

---

29. Дослідження термічної стабільності плівок Ta-Si на підкладинках GaAs
    А.В. Кучук, A. Піотровска, K. Голашевска, Р. Якела, О.С. Литвин, В.П. Кладько, А.А. Корчовий, Н.B. Осадча // Фізика і хімія твердого тіла Т. 5, № 1 (2004) С. 85-90 Physics and Chemistry of Solid State V. 5, № 1 (2004) P. 85-90
    
    
    Download: [pdf]

---

30. Diffusion barrier properties of reactively sputtered W-Ti-N thin films
    A.V. Kuchuk, V.P. Kladko, V.F. Machulin, A. Piotrowska, E. Kaminska, K. Golaszewska, R. Ratajczak and R. Minikayev // Rev. Adv. Mater. Sci. 8 (2004) 22-26 (cited 3 times)
    
    
    Download: [pdf]

---