Відділ дифракційних досліджень структури напівпровідників - IФН ISP
На першу сторінку Додати сторiнку до Вибраного Написати нам листа укр укр eng eng
Головна сторiнка
Iсторiя вiддiлу
Структура вiддiлу
Обладнання
Наукова дiяльнiсть
Публiкацiї
Програмнi розробки
Контакти
Аспiрантура
 
Кучук Андріан Володимирович
Кучук Андріан - кандидат фізико-математичних наук, старший науковий співробітник, Лауреат Премії Президента України для молодих вчених 

Дата та місце народження: 24 січня 1979 р.

Освіта:

1996-2001 Чернівецький національний університет;
2002-2005 - Аспірант інституту фізики напівпровідників ім.В.Є.Лашкарьова НАН України

Наукові ступені та звання: 
2006 – кандидат фізико-математичних наук (01.04.07–фізика твердого тіла). Дисертацію захистив у спеціалізованій раді Д.26.199.01 Інституту фізики напівпровідників ім. В.Є.Лашкарьова НАН України

Карєра:

2005-2009 - науковий співробітник інституту фізики напівпровідників ім.В.Є.Лашкарьова НАН України
2009-дотепер - старший науковий співробітник інституту фізики напівпровідників ім.В.Є.Лашкарьова НАН України

Кандидатська дисертація „Структура та фізичні властивості тонкоплівкових дифузійних бар’єрів W-Ti-N та Ta-Si-N на підкладках арсеніду та нітриду галію”  захищена 19.05.2006 р. у спецраді Д.26.199.01 Інституту фізики напівпровідників

Публікації:

- Загальна кількість статей в реферованих журналах: 80 
- Кількість статей в пошуковій системі Scopus: 63
- Кількість цитувань статей в пошуковій системі Scopus: 307 (h-index = 10)
- Кількість цитувань статей в пошуковій системі Google Scholar: 537 (h-index = 12)
- Кількість монографій: 2 (див. в розділі публікації)
- Патенти: 1

 


Список публікацій:

  1. Relationship between Condition of Deposition and Properties of W-Ti-N Thin Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering
    By Andrian V. Kuchuk, Vasyl P. Kladko, Oksana S. Lytvyn, Anna Piotrowska, Roman A. Minikayev, and Renata Ratajczak // Advanced engineering materials. 2006, 8, No3. P.209-212. (Cited 4 times)

    Download: [pdf]

  2. Термическая стабильность аморфных тонких Ta-Si-N пленок в системе металлизации Au/GaN
    А.В. Кучук, В.П. Кладько, В.Ф. Мачулин, A. Piotrowska // Журнал технической физики, 2006, T.76, вып.10. C.132-135. (cited 3 times)

    Download: [pdf]

  3. Thermal Stability of Thin Amorphous Ta–Si–N Films Used in Au/GaN Metallization
    A.V. Kuchuk, V.P. Kladko, V.F. Machulin, and A. Piotrowska // Technical Physics, 2006, Vol. 51, No. 10, pp. 1383–1385. (Cited 3 times)

    Download: [pdf]

  4. Technology and comparative investigation of ternary W-TiN and Ta(Ti)-SiN thin films diffusion barriers
    Kuchuk A.V., Kladko V.P., Machulin V.F., Piotrowska A.  // Proceedings of 18th International Symposium “Thin Films in Optics and Nano-Electronics” at Kharkov Nanotechnology Assembly, Kharkov - 2006, Vol. 2. P. 68-72.

    Download: [pdf]

  5. Heat-Resistant AuВ-TiBxВ-n-GaN Schottky Diodes
    A.E. Belyaev, N.S. Boltovets, V.N. Ivanov, V.P. Kladko, R.V. Konakova, Ya.Ya. Kudryk, A.V. Kuchuk, O.S. Lytvyn, V.V. Milenin, Yu.N. Sveshnikov  // Microwave and Telecommunication Technology, 2006. Volume: 2, P.644-645 CriMiCO '06. 16th International Crimean Conference

    Download: [pdf]

  6. Effect of Nitrogen in Ta—Si—N Thin Films on Properties and Diffusion Barrier Performances
    A.V. Kuchuk, V.P. Kladko, V.F. Machulin, O.S. Lytvyn, А.А. Коrchovyi, A. Piotrowska, R.A. Minikayev, and R. Jakiela // Металлофизика и новейшие технологии. / Metallofiz. Noveishie Tekhnol. 2005, т. 27, № 5, сс. 625—634

    Download: [pdf]

  7. Thermally stable Ru-Si-O gate electrode for AlGaN/GaN HEMT
    E. Kaminska, A. Piotrowska, A. Szczesny,A. Kuchuk, R. Lukasiewicz, K. Golaszewska, R. Kruszka, A. Barcz, R. Jakiela, E. Dynowska, A. Stonert, A. Turos // Phys. Stat. Sol. (c), Vol. 2, No. 3, P. 1060– 1064 (2005)

    Download: [pdf]

  8. Formation of rocking curves for quasi-forbidden reflections in short-periodic superlattices GaAs/AlGaAs
    Vasyl Kladko, Leonid Datsenko, Volodymyr Machulin, Jaroslaw Domagala, Petro Lytvyn, Jadwiga Bak-Misiuk, Andrian Kuchuk and Andrii Korchovyi // J. Appl. Cryst. (2004). 37, 150–155. (cited 3 times)

    Download: [pdf]

  9. Дослідження термічної стабільності плівок Ta-Si на підкладинках GaAs
    А.В. Кучук, A. Піотровска, K. Голашевска, Р. Якела, О.С. Литвин, В.П. Кладько, А.А. Корчовий, Н.B. Осадча // Фізика і хімія твердого тіла Т. 5, № 1 (2004) С. 85-90 Physics and Chemistry of Solid State V. 5, № 1 (2004) P. 85-90

    Download: [pdf]

  10. Diffusion barrier properties of reactively sputtered W-Ti-N thin films
    A.V. Kuchuk, V.P. Kladko, V.F. Machulin, A. Piotrowska, E. Kaminska, K. Golaszewska, R. Ratajczak and R. Minikayev // Rev. Adv. Mater. Sci. 8 (2004) 22-26 (cited 8 times)

    Download: [pdf]


 
© 2006-2017